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工藝技術特點

2017/6/16 | 來自: future

      我們運用世界上最為先進的低溫(80℃~500℃)Arc100CF雙磁場過濾陰極弧和線性離子源真空鍍膜技術,將具有更高硬度、更強結合力和更均勻的薄膜運用于工具、刀具、模具以及有高耐磨要求的零部件。與現行的物理蒸發技術相比,我公司超強鍍膜技術,由于靶材離化率接近100%以及高強度的受控磁場,因此所沉積的薄膜具有硬度更高、與基件的結合力更強、薄膜厚度更加均勻、薄膜中所含雜質顆粒更少,綜合性能更加優良等特點。而且因為是低溫PVD鍍膜技術,對于基材的選擇可以更加廣泛。

      我們的整個鍍膜系統包括了真空室以及數個陰極弧源和線性離子源組成。系統由工業控制計算機和可編程邏輯控制器控制,整個鍍膜過程實現完全的自動化,從而使得薄膜的質量和重復性得到精確的控制。

技術特點:
      1、靶材的離化率接近100%
      2、顆粒平均能量更高,約為傳統離子濺射的十多倍
      3、薄膜的硬度更高。比傳統的磁控離子濺射薄膜的硬度約高500~700HV
      4、薄膜與基體的結合力更強
      5、與其它接近技術相比,薄膜中有害雜質更少
      6、在相同材料和厚度的條件下,薄膜的綜合性能更為卓越
      7、鍍膜時工件溫度低,工件溫度小于500℃,對基材帶來更小的破壞
質量保證:
      我們擁有完整的涂層質量測試儀器,包括劃痕儀,球磨儀、洛氏/維氏硬度計等為新涂層的開發,及涂層的出貨質量提供保證。


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